対象機器リスト　（2012年9月14日現在）

 

機器により、料金が発生する場合がございます。各機器の詳細、共用条件は随時ＨＰにアップいたしますが、お急ぎの方は、事務局までお問い合わせください。

 

放電プラズマ焼結機（宮城県産業技術総合センター）

電波暗室 　（宮城県産業技術総合センター）

車載用ＥＭＣ試験装置（宮城県産業技術総合センター）

光造形システム（宮城県産業技術総合センター）

触媒ナノ粒子水相合成・評価装置 （今野幹男研）

垂直吸引型流動性試験装置（安斎研）

鋳造シミュレーションシステム「ADSTEFAN」（安斎研）

透過型電子顕微鏡 HITACHI  H-7650（100ｋV)　（村松研）

粉末X線回折装置 Rigaku ULTIMA-IV（Cu, 40kV-40mA）（村松研）

蛍光X線分析装置 Rigaku ZSX PrimusII（村松研）

紫外可視分光光度計 HITACHI U-3900H（村松研）

分光蛍光光度計 HITACHI F-2700（村松研）

DTA/TG MASS  その他熱分析装置　（中村研）

各種分光分析装置（赤外線・可視光）（中村研）

レーザー段差計、ＡＦＭ（中村研）

高温電気炉、ホットプレス装置（高村研）

電子ビーム（EBM）積層造形装置　（千葉研）

超臨界抽出装置・超臨界洗浄装置（猪股研）

走査型電気化学顕微鏡　（末永研）

パワーメータ（一ノ倉研）

バイポーラ電源（一ノ倉研）

トルクメータ（一ノ倉研）

インバータ（一ノ倉研）

直流電源（一ノ倉研）

超臨界水ナノ粒子合成装置「Momi超」（阿尻研）

摩擦攪拌接合装置（粉川研）

単結晶育成装置「マイクロ引き下げ炉」（吉川研）

相転移・融点・熱重量分析装置「超高温示唆熱分析(TG-DTA)装置」（吉川研）化学組成分析「電子線マイクロアナライザ（EPMA）」（吉川研）

化学組成分析「エネルギー分散型X線分光法(EDS)」（吉川研）

表面分析「走査型電子顕微鏡(SEM)」（吉川研）

結晶構造解析「粉末X線回折装置」（吉川研）

結晶性評価・薄膜構造解析「薄膜構造評価用X線回折装置」（吉川研）

BET比表面積計（冨重研）

ソルボサーマル反応装置（佐藤研）

X線回折装置・OSC評価装置（佐藤研）

比表面積・細孔分布測定装置・表面電位測定装置（佐藤研）

電磁界解析ソフトウェア，ANSYS Maxwell 3D（松木研）

5軸超精密加工機MIC-300T（ナガセインテグレックス社製）（厨川研）

3軸超精密加工機S５２（ナガセインテグレックス社製）（厨川研）

水素定量分析装置、高圧水素化装置（折茂研）

水素雰囲気ラマン・赤外分光測定装置（折茂研）

ハイスピードマイクロスコープ「VW-9000」（祖山研）

キャビテーションピーニング装置（祖山研）

Ｘ線回折式応力測定装置（祖山研）

サーモビューワー　流体科学研究所高速流実験棟（圓山研）

DTA/TG MASS  その他熱分析装置　（中村研）

各種分光分析装置（赤外線・可視光）（中村研）

レーザー段差計、ＡＦＭ（中村研）

走査型近接場ラマン分光装置（栗原研）

和周波発生 (SFG) 振動分光装置（栗原研）

2次イオン質量分析装置（栗原研）

摩擦試験機（栗原研）

レオメータ（栗原研）

接触角・表面張力計（栗原研）

セラミックス合成装置・ナノ粒子,ナノコンポジット合成装置（滝澤研）

核磁気共鳴(NMR)&磁気共鳴イメージング(MRI)装置（河村研）

非破壊検査装置一式（高木研）

分析評価装置　一式（高木研）

ダイヤモンドライクカーボン　成膜装置（高木研）

ＦＥ－ＴＥＭ，ＥＤＸ，ＧＩＦ付き（田路研）

ＦＥ－ＳＥＭ、ＥＤＸ付き（田路研）

ＸＲＤ（田路研）

レーザーラマン散乱測定装置（田路研）

ＩＲ（田路研）

Ｌａｂ．ＸＡＦＳ測定装置（田路研）

MEMS試作設備（江刺研）

試作コインランドリ（江刺研）

マルチスケール計算化学ソフトウェア（宮本研）